福建泓光半导体申请抗反射组合物等专利，具有耐溶剂性

金融界2025年4月5日消息，国家知识产权局信息显示，福建泓光半导体材料有限公司申请一项名为“抗反射组合物和抗反射膜及其应用”的专利，公开号 CN 119758666 A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本发明属于半导体加工领域，提供一种抗反射组合物和抗反射膜及其应用。本发明的抗反射组合物包含聚合物、产酸剂、交联剂、溶剂和可选的表面活性剂，其中，所述聚合物是由结构如式1所示的化合物A与化合物B通过缩聚反应形成，L为碳原子数为1～8的亚烷基等。所述抗反射组合物制备的抗反射膜具有耐溶剂性，可防止与光刻胶层互混，并且具有高的折射率、低消光系数以及优异的刻蚀速率。

天眼查资料显示，福建泓光半导体材料有限公司，成立于2019年，位于漳州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本25000万人民币，实缴资本22150万人民币。通过天眼查大数据分析，福建泓光半导体材料有限公司参与招投标项目23次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息44条，此外企业还拥有行政许可37个。

本文源自：金融界

作者：情报员