深圳市光舟半导体申请光波导制作方法以及光波导专利，有效降低第二层光栅制作难度且降低不良率

金融界2025年5月5日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市光舟半导体技术有限公司申请一项名为“光波导的制作方法以及光波导”的专利，公开号CN119916528A，申请日期为2025年2月。

专利摘要显示，本申请公开了一种光波导的制作方法以及光波导，该光波导的制作方法包括：在浮雕光栅表面涂抹材料；利用单光源对涂抹的材料进行曝光处理，使材料固化，以在浮雕光栅的表面形成第二层光栅。由此，通过在浮雕光栅表面涂抹材料，以使得涂抹的材料进入浮雕光栅表面的刻痕，再通过单光源对涂抹的材料进行硬化以完成第二层光栅的制作，从而无需通过两束相干光生成的干涉条纹作为第二层光栅的刻痕。有效降低第二层光栅的制作难度，且降低第二层光栅的不良率。

天眼查资料显示，深圳市光舟半导体技术有限公司，成立于2020年，位于深圳市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本353.7285万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市光舟半导体技术有限公司共对外投资了2家企业，财产线索方面有商标信息31条，专利信息165条，此外企业还拥有行政许可10个。

本文源自：金融界

作者：情报员