成都拓维高科取得边缘改进的普通金属掩膜版专利，降低整个掩膜版的负荷

金融界2025年5月12日消息，国家知识产权局信息显示，成都拓维高科光电科技有限公司取得一项名为“一种边缘改进的普通金属掩膜版”的专利，授权公告号CN222846792U，申请日期为2024年7月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种边缘改进的普通金属掩膜版，包括基片，基片包括AA区和位于AA区外将AA区包围在内的边缘区，边缘区包括左边缘区、右边缘区、上边缘区和下边缘区，上边缘区的边缘部分为上夹持区，下边缘区的边缘部分为下夹持区，所述上夹持区和下夹持区各自包括若干夹持位，相邻两个夹持位之间夹持一个空腔。本实用新型一方面降低了整个掩膜版的负荷，另一方面可以使用更少的力来达到相同的张网效果，从而提高了操作的效率和精度。

天眼查资料显示，成都拓维高科光电科技有限公司，成立于2017年，位于成都市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本35296.8869万人民币。通过天眼查大数据分析，成都拓维高科光电科技有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目24次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息65条，此外企业还拥有行政许可49个。

本文源自：金融界

作者：情报员